感应加热CVD化学气相沉积炉
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感应加热CVD化学气相沉积炉

感应加热CVD化学气相沉积炉设备采用中频感应加热,设备采用立式,炉底升降进出料结构。温控系统选用日本岛电(或同档次一线品牌)智能程序控温仪控温,全套设备包含炉体、中频电源、电控系统、气体控制系统、水冷系统等组成。
  • 商品名称: 感应加热CVD化学气相沉积炉

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  • 产品描述
  • 产品介绍

    CVD化学气相沉积炉是制备C/C复合材料的关键技术装备。

    感应加热CVD化学气相沉积炉设备采用中频感应加热,设备采用立式,炉底升降进出料结构。温控系统选用日本岛电(或同档次一线品牌)智能程序控温仪控温,全套设备包含炉体、中频电源、电控系统、气体控制系统、水冷系统等组成。

     

    技术参数

    1) 炉型结构:立式圆筒形,炉底升降装出料。

    2) 加热方式:中频感应加热

    3) 工作温度:2200℃;

    4) 常用温度:850~1150℃;

    5) 炉温均匀性:900±25℃,1100±12.5℃

    6) 控温方式:智能温控仪表(日本岛点FP23或同等品牌仪表)程序自动控温和手动调功控温两种方式;

    7) 工作区尺寸:φ1200×H2500mm(直径×高);

    8) 装载量:<2T; 

    9) 升温时间:6~8h(室温~1200℃);

    10) 加热功率:300kw;

    11) 控温精度:升温过程±2℃,保温过程±1℃;

    12) 真空度:≤50Pa(配置4套H150滑阀泵);

    13) 抽气时间:<50min(空炉冷态抽气达到50Pa)

    14) 空炉冷态压缩率:≤66.7Pa/h

    15) 可充气氛:氮气、烃类含碳气体;

    16) 进气方式:顶部中间;

    17) 充气流量:300L/min;

    18) 连续工作时间:>300h;

    19) 冷水流量:30m3/h; 冷水压力:0.15~0.25MPa。

    20)设备占地空间:6000×6000×6000mm(长×宽×高)。

    汉和工业感应加热CVD化学气相沉积炉接受非标定制。


行业应用

产品已广泛用于熔炼、透热、淬火、高温烧结、钎焊、热配合加工、半导体提纯等热加工场合;服务于石油天然气、火电及核电、金属铸造、钢铁冶金、汽车、工程机械、风力/水电发电、铁路、航空航天、3D金属打印、贵金属、硬质合金、太阳能薄膜电池等行业。


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